高端异质结PECVD设备

首创在线式多层反应腔双真空系统，反应腔体体积小，节省工艺气体的消耗量（仅为传统的～1/8），可使等离子体快速稳定（稳定时间~0.1秒），RF频率可选13.56MHz和40.68MHz。整个CVD工艺过程实现全自动化生产，处于超洁净环境，无交叉污染，配备等离子体自清洗系统，无需开腔体维护，增加正常运行时间，优化的工艺及在线式托盘清洗，*大限度提高设备产能，可兼容M2-M12硅片，产能为250MW。